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DIN 50452-3

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 3: Kalibrierung von optischen Durchflußpartikelzählern

Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 3: Calibration of optical particle counters

DIN 50453-1

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen - Teil 1: Silicium-Einkristalle, Gravimetrisches Verfahren

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 1: Silicium monocrystals, gravimetric method

DIN 50453-2

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method

DIN 50455-1

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods

DIN 50455-2

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists

DIN 50460

Bestimmung der magnetischen Eigenschaften von weichmagnetischen Werkstoffen; Allgemeines, Begriffe, Grundlagen der Prüfverfahren

Determination of magnetic properties of soft magnetic materials; general, terminology and principles of measurement

DIN 50472

Prüfung von Dauermagneten; Bestimmung der magnetischen Flußwerte im Arbeitsbereich

Testing of permanent magnets; determination of the magnetic flux values in the working range

DIN 50504

Chemische Analyse von Kupfer und Kupferlegierungen; Photometrische Bestimmung von Eisen in Kupfer und Kupferlegierungen mit höchstens 0,4 % Eisen

Chemical analysis of copper and copper alloys; photometric determination of iron in copper and copper alloys containing 0,4 % of iron at maximum

DIN 50506

Chemische Analyse von Kupfer und Kupferlegierungen; Photometrische Bestimmung von Nickel in Kupferlegierungen mit höchstens 2,5 % Nickel

Chemical analysis of copper and copper alloys; photometric determination of nickel in copper alloys containing 2,5 % of nickel at maximum

DIN 50508

Chemische Analyse von Kupfer und Kupferlegierungen; Bestimmung von Zinn als Legierungselement, Maßanalytisches Verfahren

Chemical analysis of copper and copper alloys; determination of tin as alloying element, volumetric method

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