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DIN EN IEC 62052-11

Elektrizitätszähler - Allgemeine Anforderungen, Prüfungen und Prüfbedingungen - Teil 11: Messeinrichtungen (IEC 62052-11:2020, modifiziert); Deutsche Fassung EN IEC 62052-11:2021 + A11:2022

Electricity metering equipment - General requirements, tests and test conditions - Part 11: Metering equipment (IEC 62052-11:2020, modified); German version EN IEC 62052-11:2021 + A11:2022

DIN EN IEC 62052-11/A12

Elektrizitätszähler - Allgemeine Anforderungen, Prüfungen und Prüfbedingungen - Teil 11: Messeinrichtungen; Deutsche Fassung EN IEC 62052-11:2021/A12:2024

Electricity metering equipment - General requirements, tests and test conditions - Part 11: Metering equipment; German version EN IEC 62052-11:2021/A12:2024

DIN EN 62052-21

Wechselstrom-Elektrizitätszähler - Allgemeine Anforderungen, Prüfungen und Prüfbedingungen - Teil 21: Einrichtungen für Tarif- und Laststeuerung (IEC 62052-21:2004 + A1:2016); Deutsche Fassung EN 62052-21:2004 + A1:2017

Electricity metering equipment (AC) - General requirements, tests and test conditions - Part 21: Tariff and load control equipment (IEC 62052-21:2004 + A1:2016); German version EN 62052-21:2004 + A1:2017

DIN EN IEC 62052-31

Elektrizitätszähler - Allgemeine Anforderungen, Prüfungen und Prüfbedingungen - Teil 31: Sicherheitsanforderungen und Prüfungen (IEC 62052-31:2024); Deutsche Fassung EN IEC 62052-31:2024

Electricity metering equipment - General requirements, tests and test conditions - Part 31: Product safety requirements and tests (IEC 62052-31:2024); German version EN IEC 62052-31:2024

DIN EN IEC 62052-41

Elektrizitätszähler - Allgemeine Anforderungen, Prüfungen und Prüfbedingungen - Teil 41: Energieerfassungsmethoden und -anforderungen für Zähler für unterschiedliche elektrische Energiearten und Mehrtarifzähler (IEC 62052-41:2022); Deutsche Fassung EN IEC 62052-41:2022

Electricity metering equipment - General requirements, tests and test conditions - Part 41: Energy registration methods and requirements for multi-energy and multi-rate meters (IEC 62052-41:2022); German version EN IEC 62052-41:2022

DIN EN 62047-21

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 21: Prüfverfahren zur Querkontraktionszahl von Dünnschichtwerkstoffen der Mikrosystemtechnik (IEC 62047-21:2014); Deutsche Fassung EN 62047-21:2014

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 21: Test method for Poisson's ratio of thin film MEMS materials (IEC 62047-21:2014); German version EN 62047-21:2014

DIN EN 62047-22

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 22: Elektromechanisches Zug-Prüfverfahren für leitfähige Dünnschichten auf flexiblen Substraten (IEC 62047-22:2014); Deutsche Fassung EN 62047-22:2014

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 22: Electromechanical tensile test method for conductive thin films on flexible substrates (IEC 62047-22:2014); German version EN 62047-22:2014

DIN EN 62047-25

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 25: Siliziumbasierte MEMS-Herstellungstechnologie - Messverfahren zur Zug-Druck- und Scherfestigkeit gebondeter Flächen im Mikrometerbereich (IEC 62047-25:2016); Deutsche Fassung EN 62047-25:2016

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 25: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of pull-press and shearing strength of micro bonding area (IEC 62047-25:2016); German version EN 62047-25:2016

DIN EN 62047-26

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 26: Beschreibung und Messverfahren für Mikro-Rillen und Nadelstrukturen (IEC 62047-26:2016); Deutsche Fassung EN 62047-26:2016

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 26: Description and measurement methods for micro trench and needle structures (IEC 62047-26:2016); German version EN 62047-26:2016

DIN EN 62047-16

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren (IEC 62047-16:2015); Deutsche Fassung EN 62047-16:2015

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015); German version EN 62047-16:2015

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